SEMITOOL产品中的SRD旋转冲洗甩干机是根据国际、国内半导体产业的发展和市场需求，研究开发的旋转冲洗甩干设备。该机型具有高洁净度旋转冲洗甩干功能。本系列机型可以适应从直径（包括方形和其它特殊形状）片式材料的旋转冲洗甩干工艺。可用于半导体晶片、砷化镓材料、掩膜版、太阳能电池基片、蓝宝石、铌酸锂、光学镜片、磁盘、光盘、医用玻璃基片等类似材料的高洁净度冲洗甩干。是半导体湿法清洗工艺中必不可少的主流设备之一。

一、配置

870S 双腔室甩干机 1 台，随机配客户指定尺寸转子2个，专用拆卸工具 1 个

二、部件及性能特点

1.控制及显◤示升级控制器，采用工业级 PLC 控制，控制器型号：PSC-X，触摸屏显示。同时与Semitool老款PSC-101,PSC-102控制器可实现无缝替代。

2.电阻率监控 去离子水电阻率监控仪，测量范围 0-18.3 兆欧

3．腔体加热

清■洗腔体顶部设置高性能加热部分，以便在最短时间内将水滴气化。

4.氮气加热

氮气通过加热棒加热后吹扫片子热氮温度 70-80℃（可按需求定制） 

5.驱动单元 

实现在工作范围内的速度精确控制和设定，驱动单元应采用无刷电机

6.减震组件 高性能阻尼减震器

7.腔体、片架载体

腔体及载体要采用316L不锈钢材料加工，电化学抛光处理表面，腔体与轴采用无接触♂氮气密封，腔体门盖采用专用密封圈，用充氮气方式进行密封。片架载体可方便更换。

8.防静电单元

防静电单元采用高压氮气电离进行防静电控制9.防管路元件

进入腔体的管路元件采用进口 PFA 高纯管件。

10.机架

机架采用 304 不锈钢材料，能够满足洁净室工作环境。

11.门

通过氮气吹入密封圈使门密封。

12. 地脚，轮

轮子完整无损伤，可以轻松的推动。地脚无变形，无生锈，可以自由调节高度。

三、 技术性能指标：

1.电源及电气控制安全性技术要求： 1.1 电压：110/220VVAC

1.2频率：50Hz

1.3功率：6KW

1.4整机绝缘电阻大于 2M 欧(用 1000V 兆欧表◥测量)

1.5各功能开关、按键、安全互锁功♀能、紧急开关使用灵活、动作可靠。

1.6设备表面平整、光滑、色调一致。2.技术指标：

2.1 加工晶片规格：2/3/4/6 寸（50-150mm）

2.2 工作腔数量：2 个

2.3 工作转速 300-2400 转/分

2.4 氮气加热标□准温度70-80℃（客户指定）

2.5 电阻率检测装置可检测0-18.3 兆欧。

2.6 加热毯加热正常

2.7转子按客户提供特氟龙片架样品定制

2.8腔体及载体表面进行电化学抛光处理，无明显划痕

2.9氮气需要安∮装过滤器，过滤精度 0.003um

2.10电磁阀组、驱动气管、门密封无漏气现象

2.11旋转载体定位功能

2.10颗粒度检测，运行正№常工艺程序颗粒达到要求值。

2.11程序运行结束后腔体内不能存有无水珠

2.12安装回水调节阀

2.13满载晶片高速旋转运行平稳，震动小，能够满足工艺要求。

2.14设备排水口管径：32mm（upvc）

2.15氮气管接入管径：3/8 英寸 (进口洁净▲型 PFA 管)

2.16纯水管接入管径：3/8 英寸 (进口洁净型 PFA 管) 3.参数设定：

冲洗，吹净，烘干 1，烘干 2 时间转速可以自由设定。四、设备交付以及安装培训与▓服务

4.1设备交付除完成设备的安装调试及试运行外，卖方将提供操作、调试、维修的全套技术资料，原厂的操⌒　作维修手册。

4.1.1使用说明书、维修手册。

4.2安装、培训与服务

4.2.1负责在客户工厂对设备进行安装调试至设备正常运转，调试完成后对客户提供现场培训，培训包括∮正常操作、维修、保养、操作、问题的分析和紧急处理程序；

4.2.2设备交付使用与售后技术服务：设备交付客户使用（验机OK）后， 保证：

1）一年内提供无偿售后服务，非≡人为操作造成的零部件损坏由我司无偿维修：

2）设备〓在保修期内出现故障我司接到客户请求维修服务信息后保证能在三个工作日内派工程师到访，维修完成后给客户一份详细的故障报告.