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                多工位硅片甩干机,半导体◆晶片甩干机

                SP-600 型旋转冲洗甩干机是一种对蓝宝石衬底片,锗片,半导体硅片等进行快速清洗、离心脱水,然后再进行烘干的全自动化设备。本系列机型可以适应从φ25mm 到φ200mm 直径(包括方形和其它特殊形状)片式材料的旋转冲洗甩干工艺。可用于半导体晶片、砷化镓材料、掩膜版、太阳能电池ω 基片、蓝宝石、铌酸锂、光学镜片、磁盘、光盘、医用玻璃基片等类似材料的高洁净度冲洗甩干。

                二手半★导体设备,SEMITOOL甩干机,晶片检测强○光灯,单片甩干↓机,半■导体设备维修|半导体设备改造,空气轴承√维修,内圆锯维修,倒角◤机维修

                1   SP-600 型旋转冲洗甩干机外观照

                多工位晶圆甩♂干机

                应用领域:可用于半导体新材料晶片、硅,砷化镓、碳化硅,掩

                膜版、太阳能电√池基片、蓝宝石、铌酸锂、光学镜片、磁盘、光

                盘、医用玻璃基片等类似材料片子的】高洁净度冲洗甩干。可达到

                同类进口设备性能。

                外观:

                1)外形尺寸:1059mm*宽959mm*高786mm

                2)机身结构:不锈@钢骨架+进口PP板外壳

                3)适用2-8”晶圆加工

                工艺参数

                1PSC-X可视化触摸控制系统可存储和运行九个可编程的配々方,每个配方步骤时间0-999

                2)旋转速度:300-1000r/min

                设备配置

                1)快速拆卸更换转子(单螺栓)

                2)超高々洁净阀门管件

                3无需氮气,通过独特设计的进风系♀统,经过超净高效系统过滤后的新风,实现快速风干

                4冲水■清洗功能(可选配)

                5)静电消除装置和电阻率检测控制和探头(可选配)

                动力参数

                1)电气:220V3KW

                2CDAΦ10气管,压力:0.25-0.3Mpa,流量:1L/min

                3DIOD3/8管,压力:0.3-0.4Mpa,流量:20-25L/min(无选配冲水功能无ㄨ此项)

                4)排水:OD32mm(UPVC) 


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